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半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分:高度径向二阶导数法(ZDD)


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半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分:高度径向二阶导数法(ZDD)

基础信息

  • 标准号:GB/T 43894.1-2024

  • 发布日期:2024-04-25

  • 实施日期:2024-11-01

  • 部分代替标准:暂无

  • 全部代替标准:暂无

  • 标准类别:方法

  • 中国标准分类号:H21

  • 国际标准分类号:77冶金77.040金属材料试验

  • 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

  • 执行单位:暂无

  • 主管部门:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会

采标情况

暂无

起草单位

山东有研半导体材料有限公司

金瑞泓微电子(嘉兴)有限公司

广东天域半导体股份有限公司

浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司

中环领先半导体材料有限公司

鸿星科技(集团)股份有限公司

起草人

王玥

朱晓彤

徐新华

徐国科

陈海婷

丁雄杰

孙燕

宁永铎

李春阳

张海英

郭正江

相近标准

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